EDA 工具是半导体制程相当重要的工具，其中西门子旗下 Mentor 能够跨越数位以及类比 IC，比起同业具备优势。Mentor 今日宣布，其 Tanner 类比／混合讯号（AMS）设计工具──Tanner S-Edit 原理图撷取工具，和 Tanner L-Edit 布局编辑器──已通过台积电的互通性 PDK（iPDK）认证，可适用于台积电为大量类比 IC 设计提供的各种特殊制程技术。
台积电的特殊制程技术 iPDK 可协助芯片制造商满足领先 AMS IC 设计的特定要求。Mentor AMS 工具现已通过台积电的多项 iPDK 认证，包括 22 奈米超低功耗、28 奈米高效能运算、40 奈米混合讯号技术，以及适用于现今最先进类比 IC 的其他特殊制程技术。
台积电设计建构行销处资深处长 Suk Lee 表示：“我们与 Mentor 的持续合作，可确保我们的共同客户能获得所需的 EDA 解决方案和服务，以支援他们在特殊节点上成功完成芯片设计和制造。这项共同努力把台积电的特殊制程技术与 Mentor 的先进设计工具结合在一起，使我们的客户能在汽车、智慧穿戴装置和工业物联网等广泛市场中实现创新成功。”
“全球许多成长最快的市场越来越需要专用的混合讯号 AMS芯片，以用来无缝连接类比和数位世界。Mentor 的 Tanner 工具经过专门设计，以满足 IC 设计人员日益成长的需求，并为需要高度创新的混合讯号 AMS IC 提供一个理想的设计平台”Mentor 芯片设计系统总经理 Greg Lebsack 表示。“Tanner AMS 工具现已通过台积电支援类比 IC 设计的特殊制程认证，这对我们的客户来说是个大好消息，因为它可以加速上市时程并把风险降至最低。Mentor 的 Tanner AMS 解决方案和台积电的类比 IC 特殊制程是协助我们共同客户致胜市场的绝佳组合。”
（首图来源：Mentor）
