印度理工学院甘地纳加分校（IIT Gandhinagar）研究团队宣布，开发出号称世界最薄的材料，厚度仅 1 奈米，为一张纸的十万分之一，将用于下一代电池和吸收紫外线的薄膜。
印度科学网（India Science Wire）报导，印度理工学院甘地纳加分校团队利用二硼化镁制造出前所未有的奈米材料，厚度仅 1 奈米。人类一根头发直径约 8 万奈米，人类去氧核糖核酸（DNA）直径约 2.5 奈米。
参与这项研究的印度理工学院甘地纳加分校化工系助理教授贾苏甲（Kabeer Jasuja）说，新材料制造方法是应用二硼化镁溶于水，让它在适当的时间重新结晶，就可制作出硼原子排列成蜂巢状的奈米片。
贾苏甲指出，其他类似的奈米材料花费比他们的新材料更昂贵，也限制了应用。
贾苏甲宣称，新材料具备低密度、高机械强度，轻量、耐热、耐化学侵蚀等特点，应用性更高，可用在制造吸收紫外线的薄膜、工程用储氢材料，以及下一代电池和奈米催化剂等。他指出，这项研究成果已经在发表在 ChemPhysChem 科学期刊上。
（作者：康世人；首图为二硼化镁粉末；来源：Materialscientist at English Wikipedia [CC BY-SA 3.0 or GFDL], via Wikimedia Commons）
