根据美国研究调查机构 De Information Network 的研究资料显示，2017 年全球半导体光刻设备，荷兰商艾司摩尔 (ASML) 仍以 85% 的市占率稳居龙头，其次是日本厂商尼康 (Nikon) 的 10.3%，以及佳能 (Canon) 的 4.3%。这样的市占率表现让 ASML 连续 16 年稳居市场第一的宝座。
报告中显示，ASML 之所以能够几乎以垄断的地位占据半导体微影设备的市场，原因是 ASML 是目前唯一一家能提供极紫外光 (EUV) 微影设备的公司。这在目前半导体的晶圆代工领域，成为极其重要的关键设备。现阶段全球的晶圆代工大厂三星、台积电、格罗方德等公司都将在 7 奈米的制程中导入这项每部加值超过 1 亿欧元的设备。因为借由极紫外光微影设备的作业，可以降低原本采用深紫外光 (DUV) 的多模式制程步骤，并且减少沉积，因此成为各晶圆代工大厂进入先进制程不可或缺的关键。
不过，在 2017 年，EUV 光刻机的年产量只有 12 台，几乎每个月只生产出一台，呈现供不应求。目前 ASML 的客户有 8 个之多，其中就包括台积电、三星和英特尔。这些半导体大厂们为了快速快速下一代新的制程，他们甚至还出钱帮助 ASML 加快研发 EUV 研发进度。
只是，多年来 EUV 的商业化之路依旧走得艰辛。因为，在光照亮度的提升始终未能达到客户的预期，而且采用 EUV 技术的成本也高得吓人的情况下，EUV 技术的进展一直很缓慢。过去，摩尔定律始终控制着半导体制程的发展，如今这些半导体大厂期望透过押注 EUV 的发展，进一步改变摩尔定律极限的问题。
据了解，ASML 目前在 EUV 光刻机累积的订单已经达到 27 台，是目前年产量的两倍多。也就是说，ASML 在 2018 年之前的产能已经全部都被订光。所以，ASML 目前也在采取措施，确保提高生产力能跟上需求。
据了解，ASML 计划在 2018 年将光刻机的年产量逐步扩大到 24 台，而到 2019 年将达到 40 台的年产量。而这样的扩产计划，进一步拉抬了 ASML 的股价。根据统计，ASML 的股价在过去一年内涨了 30%，目前公司市值约为 530 亿欧元。
(首图来源:ASML官网)
