日本对韩国实施半导体原料出口管制，引发新一波科技新冷战，全球半导体产业扫到台风尾，陷入“断链”危机。市场则高度关心，韩国半导体大厂三星（Samsung）是否会因此跛脚，而晶圆代工龙头台积电或将从中受惠。业内专家分析，短期内应不会发生转单效应，但长期来看，这将打乱三星在发展先进制程的脚步，台积电可望再拉大与对手之间的距离、让其领先地位更加稳固。
光阻剂导入难度高，影响良率甚钜
日本-自 7 月 4 日起对韩国 3 项半导体材料实施出口管制，分别为使用在智能手机面板的氟化聚酰亚胺（Polyimide），以及用在晶圆制程的光阻剂（photoresist）和高纯度氟化氢（Hydrogen fluoride），之后又将韩国从“白色名单”中移除；韩国半导体公司虽可透过专案申请原料进口，但无法享有过去的简化程序。
韩国也不会坐以待毙，除给予同等还击外，据韩媒报导，-更计划在 2020 年大幅提高国家研发支出，以协助国内企业研发关键技术，包括工业材料与设备。由于日本在这 3 项半导体原料的供应几乎呈现垄断，外界担忧此将不利韩国半导体产业发展，甚至蔓延到全球供应链。
究竟这对韩国半导体产业冲击为何？以晶圆代工来看，一位业内专家分析，虽然 3 项原料缺一不可，但从“立即性”影响来看，以管制光阻剂的冲击最大。这次日方对韩国主要管制 EUV（极紫外光刻）光阻剂，其扮演着先进制程的关键推手，更是 7 奈米制程以下的“标配”；而高达韩国高达 9 成的光阻剂都仰赖日本进口，韩国公司想要在短期间内建立好第二供应链（second source），并非易事。
他进一步说明，先不论韩国半导体公司找不找的到第二供应链，或是研发出自产材料，晶圆代工原料的验证时程相当长，从 RD 部门做原料及机台的匹配，到小量生产、上千片的试产，再到正式的导入，至少得花上半年到一年的时间，只要日方管制未除，先进制程发展势必受阻。
此外，从良率来看，光刻机（Scanner）制造速度相当快，每日约 2,000~3,000 片晶圆，如果原料出包，影响甚钜，从台积电年初爆发的光阻剂事件即可应证；而高纯度氟化氢则是用在湿式蚀刻机（Wet etching），其制造速度慢，约光刻机的八分之一至十分之一，若原料有问题，报废的晶圆相对少，对良率的影响也较小。
至于在日韩贸易战下，台积电是否可以从中得利？该名专家表示，台积电在全球晶圆代工 7 奈米制程市占率很高（TrendForce 预估达 9 成以上），推估台积电因日韩贸易战而获得转单的空间相对有限；但以长期来看，三星在先进制程的发展上“绑手绑脚”，这将更加巩固台积电的长期领先地位。
台积电 7 奈米趋近满载，5 奈米进度顺利
事实上，自从格芯、联电相继宣布退出先进制程后，台积电、三星就呈现捉对厮杀状态，而台积电起步较早，取得先发优势，目前包括苹果、华为海思、高通、超微等都是大客户；台积电于 7 月法说时更表示，7 奈米产能“非常满”，至年底占营收比重将超过 25%。
某设备商主管透露，因客户需求强劲，台积电原本预计 2020 年第二季 7 奈米产能达到一个月 10 万片以上，目前已陆续进新机台，要提前到今年底前达阵；此外，5 奈米进度也很顺利，台积电下半年以来连续上调产能规划，自一个月 3.9 万片调高到 4.5 万片，再到一个月 5 万片，反映客户需求十分正向，预计 2020 年第一季可量产。
台积电近期也调整全年资本支出，先前台积电估计 2019 年将落在 100~110 亿美元，而为因应 7 奈米、5 奈米需求，将加速扩充产能，上修资本支出至 110 亿美元以上。
对比之下，日前一度传出三星抢下 NVIDIA（辉达）7 奈米 EUV 订单，NVIDIA 随即发表声明否认，并强调合作对象依然是台积电，迅速打脸市场传闻。虽然，三星不停展现发展先进制程决心，积极抢攻 7 奈米市占，更发下豪语要在 2020 年量产 3 奈米、超车台积电，但从实际接单来看，似乎没有太大斩获。
台积电先进制程，可望领先三星两年以上
日韩贸易战牵动全球半导体产业，近日看似有和缓迹象，据外媒报导，日本-为了强调此并非“禁运”，8 月 7 日对 EUV 光阻剂发出了出口许可。对此，业内人士则认为，日本对韩国管制半导体关键原料出口，等同于给韩国半导体公司戴上“紧箍咒”，除非管制取消或韩国培育出自主原料生产，才有可能将它取下。
市场预估，原先台积电在先进制程技术领先三星 1.5~2 年，在这次爆发日韩纷争后，三星在先进制程的布局上恐跛脚，有可能再拉大双方距离到两年以上；尤其，发展先进技术是场与时间、资金、技术的全力竞赛，在任何一点丧失优势，都有可能输了赛局。
（本文由 MoneyDJ新闻 授权转载；首图来源：shutterstock）
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