LED 大厂日亚化学（Nichia Corp.）与亿光电子，近日轮番发出多件专利诉讼声明互控侵权。亿光 16 日发声明，提到一年多前与日亚在中国的覆晶专利诉讼案，已由中国专利复审委员会确认亿光专利有效，并驳回日亚专利无效请求。日亚今（18）日回应表示，将对该决定提出行政诉讼。
亿光中国子公司于 2017 年 9 月 28 日，向中国深圳中级人民法院提出专利侵权诉讼，控告深圳日亚化学及其经销商恒炘源，侵害亿光覆晶（flip chip）专利技术，要求法院针对侵权产品下达禁制令并赔偿损害。亿光指出，中国专利复审委员会已确认该专利有效，驳回日亚的专利无效请求。
据日亚声明指出，该中国专利 CN 101400197 B 为“具覆晶结构的发光二极管装置”，针对中国专利复审委员会维持亿光该中国专利有效性的决定，日亚将提起行政诉讼以捍卫权利。
日亚另提到该中国专利的台湾对应案，不仅已由台湾经济部认定亿光专利无效，且亿光曾于 2017 年 12 月 5 日向台湾智财法院所提起的行政诉讼，也于 2018 年 8 月 28 日自行撤回起诉。日亚以该台湾对应专利确定撤销一事，认为前述的亿光中国专利亦应无效。不过，台湾与中国两地审理情况有别，结果能否如日亚预期仍有变数。
日亚与亿光之间，在台湾、日本、美国、德国、中国等多个地区都有专利侵权诉讼，双方针对新旧案件缠讼多时，不但未见停歇还愈演愈烈，专利之争恐难休止。
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