光学检测大厂科磊（KLA-Tencor）在8月21日的台风天召开记者会前，所有媒体最为关心的就是台系电子束（E-beam）检测设备大厂汉微科，是否会威胁科磊在晶圆代工与内存检测设备市场的地位，科磊是否也有计划抢回电子束检测设备的市占率？而一向低调鲜少与媒体见面的科磊，此次有备而来，强调电子束的检测速度太慢，光学检测仍居于主流地位，同时亦宣布 2014 年将把设备训练中心设在台湾，要拉拢台湾市场客户的心。

光学检测与电子束检测的差异

在光学检测设备上，科磊、汉微科分居前两名地位。日前汉微科在电子束检测市占率快速成长，分辨率也来到3奈米，引发市场关注，科磊行销长 Brian Trafas 这次在台湾举办的记者会上，郑重澄清光学检测并不会被电子束检测取代的市场耳语。

科技新报访谈Trafas，他认为，以半导体领域而言，要在 12 吋晶圆上检测 10 奈米的缺陷，最好的类比就是，接近于在台湾全岛找出 1 元大的硬币这件事情，假设我们用光学检测设备(假设是非常大)，整个时间可能需要 1 小时，但如果电子束来检测，做这件事情却可能得花费甚至 1 年的时间。当然这只是个比喻，他主要的目的是说明电子束检测的速度相对慢很多。

他也提出，如果要让电子束检测设备赶上光学检测设备，这得同时用约一千个枪头（multiple-beam）来进行检测。可惜，当前技术领域中，这还是有很大的挑战，尚未突破多枪头同时检测的瓶颈。

现阶段，电子束检测设备的分辨率是比较好的，可是当半导体领域客户要量产产品时，如果考量时间成本，占整体成本之一的检测速度会显得重要。

Brian Trafas看好电子束检测设备可以先应用在研发阶段，过程中，先采用光学检测设备找出晶圆缺陷，接着透过电子束检测设备的高分辨率做更精密的分析，有助于提高研发阶段的成果。

Brian Trafas同时说明科磊产品蓝图，并介绍新产品，该公司也切入电子束检测设备市场，新推出的是eDR-7100 电子束技术，这种产品的卖点，是可精准识别极微小的缺陷。另外，这种半导体检测设备，使用第四代电子束浸没式光学元件，设法提升分辨率，并透过影像模式的选取，去针对不同缺陷类型来产生成像，做好检测的工作。

该公司也指出，预计在 2014 年 4 月在台湾设立设备训练中心，看好台湾的半导体市场发展。