尽管韩国和日本的贸易冲突日渐升温，且有越演越烈的趋势，但韩国三星电子仍将依照时程，9 月于日本举办晶圆制造论坛。市场人士表示，尽管日本管控向韩国国出口半导体材料，但借由晶圆代工论坛举行，三星仍希望传达晶圆代工业务不受干扰的讯息。
据韩国媒体《BusinessKorea》报导，韩国三星 28 日宣布，2019 年三星晶圆制造论坛（SFF）日本场如期于 9 月 4 日在东京品川举行，三星已开始接受透过网站报名。
三星将在晶圆制造论坛展示专有的奈米加工技术，并提供全面性 GAA 制程技术参考设计。三星曾表示，GAA 制程技术将用于制造 3 奈米或更低的半导体。此称为目前 FinFET 技术进化版的生产技术，能重新设计改造芯片核心的晶体管，使其更小更快。三星指出，预计 2021 年透过这项技术推出的 3 奈米制程技术，时间点号称比晶圆代工龙头台积电提前一年，比英特尔提前 2~3 年，可使三星在先进制程与台积电及英特尔抗衡，甚至超越。
三星已于 5 月在美国举办首场晶圆制造论坛，之后 6 月在中国上海，7 月在韩国首尔，接下来 9 月东京举行之后，10 月也将移师德国慕尼黑。7 月 4 日日本-决定管制核心半导体原物料出口韩国之后，市场人士一直质疑三星能否按计划举办活动，最后三星决定如期举行。
市场人士认为，三星继续维持晶圆制造论坛于日本举行的目的，主要是向市场传达三星晶圆制造业务不受日本控管原物料出口韩国的讯息。自 2018 年内存市场价格持续下跌以来，对三星半导体业务获利造成严重冲击，据三星 2019 年第 2 季财测，因内存跌价将冲击三星第 2 季获利较 2018 年同期下跌高达 56%，故发展非内存产品业务，尤其晶圆制造方面，更是三星看重的关键。
只是，晶圆制造业务容易受日本出口法规影响，三星这次决定不取消日本论坛，显示其发展晶圆制造业务、抢台积电订单的决心，不过目前日本限制用于 7 奈米制程 EUV 技术的光阻剂出口韩国，仍是三星亟待解决的问题。能否在光阻剂供应获得多元化来源，以减低对日本的依赖，相信也是论坛时三星不得不面对与会者质疑的焦点。
（首图来源：三星）
