半导体微影技术厂商艾司摩尔（ASML）公布 2018 第一季财报。ASML 第一季营收净额（net sales）22.9 亿欧元，净收入 5.4 亿欧元，毛利率（gross margin）为 48.7%。预估 2018 第二季营收净额（net sales）将落在 25 亿至 26 亿欧元之间，毛利率（gross margin）约为 43%，反映 EUV 营收将大幅增加。
ASML 总裁暨首席执行官温彼得（Peter Wennink）表示 : “第一季业绩表现强劲，超出预期，主要来自于大量出货，以及客户对深紫外光（DUV）微影系统和全方位微影方案（Holistic Litho）的需求。在 EUV 方面，本季我们共完成 3 台 EUV 系统出货，另一台则正准备出货。我们在第一季获得 9 台 NXE: 3400B 订单，也确认 EUV 业务持续成长。 近来不同客户都公开讨论将于今年底前将采用 EUV 进行芯片量产。因此，我们计划在 2018 年完成 20 台 EUV 系统出货，并在 2019 年将 EUV 出货量拉升到 30 台以上，全力协助客户达成其量产目标。此外，关于下一代 High-NA（高数值孔径）EUV 产品，我们也开始从三个主要客户方面接到 4 台订单，另外有 8 台 EUV 订单则是采取升级方案（options）。”
High-NA 是 EUV 微影技术的延伸，分辨率（resolution）和微影叠对（overlay）能力比现行 EUV 系统提升 70%，能达成业界未来对于几何式芯片微缩（geometric chip scaling）的要求。
“这是一个好的开始，我们也乐观预期 2018 年 ASML 将在业绩和获利能力持续稳健成长。”温彼得说。
第一季产品重点摘要
深紫外光（DUV）微影：最新的 NXT 机台已达每天曝光 6,000 片晶圆的产能里程碑，支援客户量产需求。
全方位微影方案（Holistic Lithography）：本季已完成采用多重电子束技术（multiple e-beam）的图案缺陷量测（pattern fidelity metrology）系统──ePfm5 出货。该系统是 ASML 收购汉微科后共同研发的产品，具更高分辨率以检测系统缺陷。这项创新的电子束量测系统和 ASML 的运算式微影（Computational Lithography）软件结合，能在实际制造芯片的过程中，即时提供电子束的反馈给微影系统。ASML 也已经证实多重电子束能进一步提升电子束量测的产能，应用于量产阶段。
极紫外光（EUV）微影 : 吞吐量（throughput）持续提升，在一个客户端的测试，达每小时曝光 125 片晶圆的量产里程碑，同时在 ASML 的实验室展现每小时曝光 140 片晶圆的实力。
展望 2018 年第二季，ASML 预估整体销售净额可达 25~26 亿欧元，毛利率约落在 43%，反映 EUV 业务的强劲成长。研发投资金额提高到 3.75 亿欧元，而管销费用（SG&A）支出则约 1.15 亿欧元，目标年化税率约 14%。
配息（Dividend）及新一波股票回购（Share Buyback）计划
ASML 已向董事会提出配息方案建议，每股配息 1.4 欧元（总计6 亿欧元），并订于 25 日召开年度股东会。2016 年的配息为每股 1.2 欧元。
ASML 在 2018 年 1 月宣布划继续透过股息配发和股票回购计划将现金回馈给股东。股票回购部分，ASML 计划在 2018~2019 年收购以 25 亿欧元为上限的股票。这些收购的股票中，最多有 240 万股将用于员工认股计划，其余注销。截至 2018 年 4 月 1 日，ASML 已收购 100 万股，约价值 1.7 亿欧元。
（首图来源：ASML）
