美国半导体大厂美光宣布，未来 10 年投资 1,500 亿美元用于芯片制造和研发。该公司表示，目前正与台湾、日本和欧洲在内的各地-商谈，有关扩大生产规模事宜。
根据日经报导，美光全球业务执行副总裁 Manish Bhatia 强调，推动全球扩张计划是为了跟上不断成长的需求，不会造成内存芯片市场的供应过剩。他指出，关于未来几代（芯片技术），正与日本、台湾、美国和其他多国-讨论下一步内容，不排除将 ASML 生产的 EUV 曝光设备带到日本在内的各种设施。
美光尚未针对具体国家设定具体投资计划。不过美光先前宣布，将在2024 年前将 EUV 曝光技术引入台湾，另外也有计划在台中 DRAM 厂安装最新曝光设备 NXE: 3600D 的消息传出。
目前，美光已经在美国、台湾、日本和新加坡拥有生产设备，还在中国、马来西亚营运芯片封装工厂，其 NAND 闪存生产基地则位于新加坡。
Bhatia 表示，美光希望强调储存芯片是半导体生态系统中不断成长且重要的一部分，因为大多数政策讨论都集中在处理器、微控制器、图像传感器和其他类型的逻辑芯片上，而不是储存芯片。
虽然美光最近降低财测目标，但这只限于短期，一旦其他零组件的短缺情况缓解，对 DRAM 的需求将维持强劲状态。Bhatia 认为，目前还不是下降趋势的开始，美光预计 2022 年营收和盈利能力将创下历史新高。
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（首图来源：科技新报）
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