日本对销往韩国的三种半导体原料,实施出口管制将近一年以来,韩国终于成功开发出本土产品。SK Materials 宣布,已经开始量产蚀刻气体(etching gas),减少对日本关键原料的依赖。
韩联社、Aju Business Daily 17 日报导,SK 集团旗下的 SK Materials,去年在韩国荣州市(Yeongju)兴建年产量 15 吨的蚀刻气体工厂,17 日宣布开始量产高纯度蚀刻气体──氟化氢(hydrogen fluoride),这是生产晶圆的重要原料,可以洗掉制程时晶圆片上堆积的异物。
SK Materials 可能会供货内存大厂 SK 海力士,不过 SK Materials 不愿评论。2019 年 7 月,日本加强对三项原料的出口管制,分别是氟聚酰亚胺、光阻剂、蚀刻气体(高纯度氟化氢),都是生产半导体和可挠式面板的关键原料。不只如此,日本还把韩国踢出贸易优惠待遇国的名单之外。日韩交恶,韩国业者全力启动相关原料本土化生产。
蚀刻气体之外,SK Materials 还打算兴建氟化氩光阻剂(ArF photoresist)工厂,预定 2021 年完工、2022 年起每年产量达 5 万加仑。另外,SKC 准备要生产高阶光罩基板(mask blanks),也是半导体的重要原料。
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