由于终端市场需求趋缓,
台积电:专注制程开发、深耕 InFO 技术、中国南京厂建置为 2016 年三大重点
拓墣表示,半导体三巨头中台积电是唯一的纯晶圆代工厂,与客户无直接竞争关系,可专注于制程技术的开发。2016 年台积电资本支出约 70% 用于先进制程的开发,其中大部分用在 10 奈米制程技术,可见台积电对 10 奈米制程研发的重视。资本支出的 10% 则持续投入 InFO 技术的开发,InFO 技术有散热佳、厚度和面积缩小、成品稳定度高的优势,已有少数大客户开始投单,预期未来将有更多客户陆续投入。
为了就近服务广大的中国市场,台积电规划 30 亿美元用于中国南京 12 吋厂的建置,预期在 2018 年投产。今年南京厂计划先投入 5 亿美元,2017 与 2018 年将增加投资力道。
三星:智能手机业务前景不明,2016 年半导体事业将是重心
智能手机是三星最重要的业务,在终端市场需求趋缓、手机差异化缩小的情况下,三星受到苹果与中国品牌的激烈竞争。根据三星财报显示,2015 年营收年衰退 2.6%,净利下滑 20.6%。相较智能手机,2015 年三星的半导体营收年成长 20%、内存年成长 17%,大规模集成电路(LSI)业务年成长约 27.7%,表现十分亮眼。
拓墣指出,2016 年三星的智能手机业务拓展仍不乐观,除加速开发创新业务,将更加重视晶圆代工业务,采取积极抢单的策略。2016 年三星 115 亿美元的资本支出中,大规模集成电路业务会维持与 2015 年 35 亿美元的相同水准。
英特尔:维持制程领先地位,扩展内存相关业务
英特尔虽然在 14 / 16 奈米制程技术开发上领先,但台积电与三星若在 10 奈米的技术上赶超,将使英特尔在 CPU 产品上面临强大的竞争压力,严重挑战英特尔自 1995 年来的领先地位。2016 年英特尔将持续扩大资本支出以维持制程领先,相关资本支出约达 80 亿美元。
在资料中心的竞争中,2015 年英特尔与美光联合发表包含 3D-NAND 与 Xpoint 等用于内存的技术,此外更宣布投资 25 亿美元把大连厂打造成内存制造厂。2016 年英特尔的资本支出中约有 15 亿美元将投资在内存相关业务。
(首图来源:Flickr/Rob Bulmahn CC BY 2.0)
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