新华社报导，中国总投资金额达 240 亿美元的国家内存基地专案（一期）的一号生产及动力厂房于 28 日提前封顶，预计 2018 年起投入使用；待新厂全面建成后，该专案年产值预估将超过 100 亿美元。
中国国家内存基地专案位于武汉东湖高新区武汉未来科技城，一期工程于 2016 年 12 月 30 日正式开工建设，规划 3 座全球单座洁净面积最大的厂房、一座总部研发大楼和其他若干配套建筑，其核心生产厂房和设备每平方米的投资强度超过 3 万美元。
中国国家内存基地专案是湖北省单体投资最大的高科技产业专案，专案一期达产后，预计可实现月产能 30 万片 12 吋晶圆，年产值将超过 100 亿美元，预计到 2030 年月产能将提升至 100 万片。
据了解，目前，武汉东湖高新区已为中国国家内存基地专案规划建设 1,100 亩配套产业园区和 1,500 亩国际社区用地，正加快引进产业链顶级配套企业和国际化人才。同时亦加快建设武汉国际微电子学院，组建长江芯片研究院、国家先进存储产业创新中心、存储芯片联盟、国家 IP 交易中心等，致力打造世界级的积体电路产业创新中心。
（本文由 MoneyDJ新闻 授权转载；首图来源：Flickr/Santi CC BY 2.0）
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