近期，中国半导体厂开始积极迎接先进的光刻机时代到来。就在日前，中国最大晶圆代工厂中芯国际斥资 1.2 亿美元，自荷商艾司摩尔（ASML）买来中国首台极紫外线光刻机的消息曝光之后，以生产 NAND Flash 为主的长江存储，也在日前传出，同样向艾司摩尔采购价值 7,200 万美元的 193 奈米沉浸式光刻机，用于 20~14 奈米的 3D NAND Flash 生产，也同样运抵武汉。最新的是，华虹集团旗下的上海华力集成电路，也迎接了他们的首台 193 奈米双沉浸式的光刻机，以用于先进制程的晶圆制造生产。
事实上，中国在政府的政策支持下，发展半导体产业不遗余力已经不是新闻。不论是在晶圆代工制造、DRAM、NAND Flash 等领域，过去企图透过购并、挖角以获得先进技术。但是在制程的过程中，关键的技术设备在过去难以取得，也是阻碍中国半导体发展的原因之一。如今，似乎这样的限制正逐渐地被打开中。在相关的半导体生产中，中国厂商也开始逐渐导入先进的制程设备，以方面往更先进的制程。
据了解，在 5 月 21 日上午运抵上海浦东新区康桥工业园南区的艾司摩尔双沉浸式光刻机，是由上海华宏集团旗下的华力集成电路所采购，预计将安装于兴建产线中的 12 吋晶圆厂──华虹六厂中使用。该部双沉浸式光刻机的型号为 NXT 1980Di，可用于 10 奈米级（ 14~20 奈米）的晶圆生产，它也是中国装备的最先进的沉浸式光刻设备。
而根据市场调查研究单位 IC Insights 的资料指出，上海华虹在 2017 年的营收排名全球第八，虽然仍落后龙头台积电很大的距离。但是，其金额却仅次于中芯国际，而且年成长率高达 18%，为该年度全球成长最大的厂商。而上海华虹旗下的 12 吋晶圆厂──华虹六厂是该公司第 2 座 12 吋晶圆厂。预计产线完成建置，并正式投入生产后，最大产能可达每月 4 万片。而开始设计的制程技术为 28 奈米，最终将以 14 奈米制程做为生产标准制程技术。
（首图来源：shutterstock）
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