微电子产业特种化学品和材料解决方案厂商英特格（Entegris）宣布，新一代光罩盒已获得半导体生产设备商艾司摩尔（ASML）认证，可用于极紫外光（EUV）微影技术的芯片大量生产，用以保护制造过程中光罩的完整。
英特格表示，日前公司正式发表下一代 EUV 1010 光罩盒，可用于 EUV 微影技术大量生产的半导体制造。英特格进一步指出，EUV 1010 光罩盒是透过与全球最大芯片生产设备制造商之一的 ASML 密切合作开发，率先成为全世界第一个获得 ASML 认证，可用于 NXE:3400B 及未来更先进机台的光罩盒产品。
英特格还表示，随着半导体产业开始大量使用 EUV 微影技术进行先进技术节点的大量制造，保持 EUV 光罩无缺陷的要求比以往任何时候都高。英特格 EUV 1010 光罩盒已通过 ASML 全面认证，可用于其最新 EUV 微影机，并展现对 EUV 光罩的保护能力，包括解决最关键的粒子污染挑战。英特格的 EUV 1010 光罩盒因此让客户顺利使用最先进的微影制程，制造产品所需越来越小的线宽。
为了在 ASML 的 NXE:3400B 微影机达成此性能水准，英特格开发出用于接触光罩和控制环境的新型技术。英特格晶圆和光罩处理副总裁 Paul Magoon 表示，EUV 1010 代表英特格产品在改进缺陷率方面的重大突破，让实施先进技术节点的客户，可专注于提高效率和产量。最后，与 ASML 共同开发和测试，也确保 EUV 1010 符合最先进的 EUV 微影机要求。
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