根据韩国媒体《BusinseeKorea》的最新报导指出，由于极紫外光 (EUV) 曝光技术牵涉新一代半导体的生产，而且影响逻辑芯片与内存的先进制程，这使得韩国方面不断强化其在专利上的申请数量。根据韩国知识产权局（KIPO）的统计数据显示，2019 年韩国企业或单位提出有关 EUV 专利的申请数量首次超越国外企业，这将成为韩国企业未来发展 EUV 技术与产品的利器。
报导指出，KIPO 最新统计过去 10 年的专利申请报告指出，提交给 KIPO 有关于 EUV 曝光技术专利申请数量，在 2014 年为 88 件，在 2018 年达到 55 件，在 2019 年则是来到 50 件。其中，在 2019 年的 50 件专利申请当中，韩国企业或单位提交的数量为 40 件，国外企业则是提交 10 件的数量，这是韩国首次提交相关 EUV 相关专利数量超越国外，而且这样的情况 2020 年预计还将持续维持。
由于 EUV 技术关系着逻辑芯片与内存的先进制程发展，这使得韩国企业一直在力求其相关的专利申请数量能够追上国外企业。其中，EUV 技术当中包含多项关键，例如多层反射镜，多层光罩，防护膜，光源等。这些重要的关键在过去 10 年中，包含韩国三星在内的全球重要科技公司都相继投入，进行研究和开发，以确保技术领先。最近，晶圆代工场开始使用 5 奈米 EUV 曝光技术来生产相关逻辑芯片，就是其研究发展下的成果。
报导表示，如果以公司别来区分，全球 6 家主要针对 EUV 关键技术发展的企业，其相关专利的总申请量达到全部有关 EUV 专利申请量的 59%。其中，德国卡尔蔡司占 18%，韩国三星占 15%，荷兰ASML 占 11%，韩国 S＆S Tech 占 8%，台积电占 6%，韩国 SK 海力士为 1%。
另外，从相关技术专利申请部分来分析，处理技术专利的申请量占 32%，曝光设备技术的专利申请量占 31%，光罩技术的专利量占 28%，光罩的专利量则占 9%。至于，在制程技术领域方面，三星电子的申领量占 39%，台积电占 15%，这意味着这两家公司就抢下了超过一半的比例。而在光罩领域方面，韩国 S＆S Tech 占 28%，日本 Hoya 占 15%，韩国汉阳大学占 10%，日本 Asahi Glass 也有 10% 的比例，韩国三星则为 9%。
(首图来源:科技新报摄)
