就在台积电与三星陆续将晶圆制造先进制程推向 7 奈米节点之际，全球半导体设备大厂艾司摩尔（ASML）也表示，在 2018 年预计出货总共 18 台极紫外光光刻机（EUV）之后，2019 年更将把出货量提升到 30 台。而且，还将在 2019 年下半年推出效能较前一代 EUV 提升 24% 的全新机款，以逐步满足市场需求。
根据 ASML 日前所公布的 2018 年第 3 季财报指出，该季营收达到 27.8 亿欧元，其中，设备销售营收为 20.81 亿欧元，安装管理服务等业务营收达 6.95 亿欧元，数字较第 2 季成长 13.4%，较 2017 年同期也成长 1%。毛利率达到了 48.1%，相较第 2 季增加 5.2 个百分点，较 2017 年同期也增加了 4.8 个百分点。
以 EUV 的销售情况来看，ASML 在第 3 季总共出货了 5 台 EUV，而第 2 季则是出货 7 台 EUV，在预计第 4 季还将出货 6 台 EUV 的情况下，全年总计将出货的数量将达到 18 台，还预计 2019 年 EUV 的出货数量将放大到 30 台。另外，而在 EUV 的销售中，韩国公司的占销售金额比重 33%，台湾公司占比为 30%，而中国公司的销售占比则为 18%。这样的数字，相较第 2 季的情况，韩国公司下降 2 个百分点，台湾公司则是提升了 12 百分点，而中国公司则是下跌 1 个百分点。
而就 2019 年整体 EUV 预估出货的情况来分析，除了 EUV 出货数量将大幅成长之外，ASML 在 2019 年下半年还将推出效能进一步强化的 NXE:3400C 型 EUV 光刻机，其每小时处理的晶圆数量（WPH）将能达到 155 片，较目前的 NXE:3400B 型 EUV 光刻机的 WPH 能达成 125 片的效能来说，NXE:3400C 型的产能预计将提升 24%，这对改善 EUV 制程的产能将很有帮助。
不过，虽然将推出新一代 NXE:3400C 型 EUV 光刻机，其效能较上一代 EUV 能提升 24%。但是，要全面取代传统的氟化氩（ArF）沉浸式光刻机，可能还有一段时间。因为，即便新一代 NXE:3400C 型 EUV 光刻机能达到 155 WPH 的产能，但是相较现在的（ArF）沉浸式光刻机产能可达 250 WPH 来说，EUV 光刻机的产能还有一大段距离要努力。所以，要全面取代目前仍为时尚早。
（首图来源：艾司摩尔官网）
